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[单选题]
制取无牙下颌印模时,远中的范围是
A
盖过磨牙后垫
B
盖过磨牙后垫的2/3
C
盖过磨牙后垫的1/2~2/3
D
盖过磨牙后垫的前1/3~1/2
E
暴露磨牙后垫
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参考答案
试题答案:
D
答案解释:
相关题目
关于腭小凹的描述,准确的是
如果缺牙区牙槽嵴吸收严重,则桥体应设计为( )。
糊剂型藻酸盐印模材料应用时,糊剂与胶结剂的体积比为( )。
对于远中游离端义齿的制作下列哪项是不正确的?( )
被认为可以缓冲应力的连接体是( )
由于上下牙槽骨的吸收方向不同并持续进行,其结果是( )
恒切牙及尖牙的牙胚发生时间是( )。
有关义齿就位的方向与模型倾斜的关系,下列说法错误的是( )。
Kennedy分类依据 ( )。
制取无牙下颌印模时,远中的范围是
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